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化學氣相沉積系統(CVD)
簡介
儀器管理者:許泱泱
基本簡介:
目前製備:
ZnO
真空度:
可達10-3torr以下
氣體流量控制器:
1000sccm及100sccm
三段式加熱器,可兩段控溫
實驗成果:
ZnO 奈米柱